第321章 光刻机计划2（2/2）

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陈平安手里拿着一份厚厚的报告，走进了会议室。

这是一份他花了整整一个月时间整理出来的技术规划，涵盖了光刻机研发所需的每一个环节，以及整个芯片制造产业链需要的所有设备。这份报告不仅详尽得令人难以置信，还超越了当时的时代认知。

会议室里坐满了来自全国各地的科学家、工程师和各领域的专家。他们每个人都带着期待而又疑惑的目光，等待着这位“启明星主编”提出的下一步计划。

陈平安站在台前，扫了一眼整个会议室，随即展开了手中的方案。他的声音低沉而坚定，语速却不急不缓：

“同志们，之前我们发布了《启明星》，向全世界展示了我们的科技潜力，但今天我要告诉大家的是，光靠理论是不够的。如果我们想要真正掌握未来的科技命脉，就必须从现在开始，构建一套属于我们自已的芯片制造体系。”

他停顿了一下，继续说道：“这不仅是为了追赶世界，更是为了防止未来被卡住脖子。今天，我带来了一整套芯片制造设备的研发规划。”

随着他的话音落下，助手将一份份报告分发给在场的每一个人。那些科学家和工程师迫不及待地翻开报告，接下来的内容让他们顿时目瞪口呆。

陈平安的方案覆盖了从硅材料提纯到芯片封装测试的全产业链设备研发，其中包括：

高纯度硅晶片生产设备

多晶硅提纯设备

单晶拉制设备（CZ法单晶炉）

硅片切片机

硅片抛光和清洗设备

光刻机核心组件

高精度光学镜头研发计划

掩膜版制造工艺

步进扫描台的设计与制造方案

蚀刻设备与涂胶显影设备

等离子体蚀刻机

涂胶机与显影机

其他关键设备

离子注入机

化学气相沉积设备（CVD）

封装与测试设备

特别是在光刻机部分，报告中详细描述了当时的技术基础并规划了突破路径，从光学镜头的设计，到步进扫描台的精密控制，再到掩膜版的制造工艺，甚至包括未来可能使用的深紫外光源。

陈平安最后总结道：“按照这套方案，我们将分三个阶段推进，预计需要两年的时间，才能实现从无到有的突破，建立起完整的芯片制造体系。

这条路很难，但如果我们不开始走，就永远无法追赶世界。”

会议室里一时间鸦雀无声，所有人都在翻阅报告，试图消化里面的信息。

“这……这太详细了。”

一位从事化工研究的老教授拿着报告，手都在微微发抖。他喃喃道：“从多晶硅的提纯，到单晶拉制，再到硅片切割和抛光，这些技术我们连基础概念都没有掌握……陈主任竟然已经规划出了整套解决方案？”

另一位机械工程师则皱着眉头说道：“光刻机的步进扫描台需要微米级精度，我们的数控机床精度才刚刚达到毫米级，这个难度……简直是痴人说梦啊！”

“还有这光学镜头……”最近转码严重，让我们更有动力，更新更快，麻烦你动动小手退出阅读模式。谢谢